蚀刻是一种利用化学强酸腐蚀、机械抛光或电化学电解对物体表面进行处理的技术。除了增强美感之外，它还增加了对象的附加值。从传统的金属加工到高科技半导体制造，都在蚀刻技术的应用范围之内。下面小编要和大家分享关于欧陆钛蚀刻前的清洗工艺以及技术类型的内容，欢迎阅读！

欧陆钛蚀刻前的清洗工艺：

　　不锈钢或其他金属蚀刻前的工序是清洗处理，主要作用是去除材料表面的污垢、灰尘、油渍等。清洗工艺是保证后续薄膜或丝印油墨对金属表面有良好附着力的关键。因此，必须彻底清除金属蚀刻表面的油污和氧化膜。脱脂应根据工件的油污情况而定。建议在丝印油墨前进行电脱脂，以保证脱脂效果。除氧化膜外，还应根据金属种类和膜厚选择最佳蚀刻液，以保证表面清洁。丝网印刷前必须干燥。如果有水分。

蚀刻技术的类型：

　　湿蚀刻：

　　湿法蚀刻是将晶圆浸入合适的化学溶液中，或将化学溶液喷射到晶圆上进行淬火，通过溶液与被蚀刻物体的化学反应去除薄膜表面的原子，从而达到蚀刻的目的. 进行湿法刻蚀时，溶液中的反应物首先通过停滞边界层扩散，然后到达晶片表面，发生化学反应，产生各种产物。蚀刻化学反应的产物是液相或气相产物，然后这些产物通过边界层扩散并溶解到主溶液中。湿法蚀刻不仅会在垂直方向蚀刻，还会有水平蚀刻效果。

　　干蚀刻：

　　干蚀刻通常是等离子蚀刻或化学蚀刻的一种。由于蚀刻效果的不同，等离子体中离子的物理原子、活性自由基的化学反应以及器件（晶圆）的表面原子，或两者的结合，包括以下内容：

　　物理蚀刻：溅射蚀刻、离子束蚀刻

　　化学蚀刻：等离子蚀刻

　　物理化学复合蚀刻：反应离子蚀刻（RIE）

　　干蚀刻是一种各向异性蚀刻，具有良好的方向性，但选择性比湿蚀刻差。在等离子体蚀刻中，等离子体是一种部分离解的气体，气体分子被离解成电子、离子和其他具有高化学活性的物质。干蚀刻的优点是“ 各向异性蚀刻”。然而，（自由基）干蚀刻的选择性低于湿蚀刻。这是因为干蚀刻的蚀刻机理是物理相互作用；因此，离子的冲击不仅可以去除蚀刻膜，还可以去除光刻胶掩模。

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